中國DUV微影機傳量產　ASML供應商酸：還落後15年

中國傳出已開始量產自主研發的浸潤式深紫外線（DUV）微影機，象徵北京降低對外國技術依賴的努力邁出重要一步，但德國蔡司集團的高層主管週三（2日）直言，中國在開發先進晶片製造設備方面仍落後約15年時間。

蔡司（Zeiss）半導體部門負責人羅蒙德（Frank Rohmund）在接受彭博電視台採訪時表示，中國需要15年時間才能研發出極紫外光（EUV）微影機，這是一個「合理假設」，但他同時指出，中國在這方面的進展難以量化。

蔡司是荷蘭半導體設備廠艾司摩爾（ASML）EUV微影機所用光學元件的獨家供應商，該技術對生產輝達公司（Nvidia）的最先進AI晶片至關重要。

隨著全球兩大經濟體競相開發尖端AI模型，晶片製造技術已成為美國阻止中國取得頂級AI晶片的核心目標。美國禁止艾司摩爾向中國出口自家最先進的設備，北京當局則向國內半導體產業投入巨資，以達成科技「自立自強」。

瑞士銀行（UBS）分析師團隊本週亦曾撰文指出，中國距離開發出本土的EUV技術，恐怕還需至少10年時間。

彭博指出，對於採用DUV技術的上一代晶片製造設備而言，中國是艾司摩爾的主要市場之一。美國亦要求艾司摩爾必須取得許可證，才能向中國出口該公司旗下數款較先進的浸潤式DUV微影機。

羅蒙德表示，任何將出口管制範圍擴大至涵蓋舊款DUV機型的計畫，都將對業務造成負面影響。「我們不認為這些出口管制會有正面影響，因為這反而會加速中國的創新進程。」

中國在生產浸潤式DUV微影機方面已取得重大進展。路透社7月曾引述匿名知情人士透露，中國國有企業上海愛晟納電子科技集團在整合多家頂尖微影新創公司的研發團隊後，正式展開量產相關機型。

羅蒙德表示，北京數十年來一直致力於研發該技術，近期的報導「其實並不令人意外，現在我們需要觀察這些設備的實際性能如何」，並補充說：「我們仍遙遙領先。」