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    半導體展後四大趨勢浮現! 陳慧明提2主線、陸行之台積電 CoWoS-L 關鍵

    2026-09-07 08:01 / 作者 陳俐妏
    SEMICON Taiwan半導體展,晶圓材料。廖瑞祥攝
    國際半導體展SEMICON Taiwan正式落幕,科技趨勢也牽動投資脈動,前外資分析師、聚芯資本管理合夥陳慧明指出四大趨勢,台灣供應鏈受惠正由傳統封測延伸至材料、設備、廠務與特種氣體。兩大主線最值得關注:一是的雷射與光學元件供給端(如 EML、CW 雷射與磷化銦產能);二是CPO 測試與驗證設備供應鏈。

    知名半導體分析師陸行之則認為,隨著 3D 混合鍵合(Hybrid Bonding)將晶粒間距微縮至數微米且堆疊層數高達 16–20 層,傳統光學檢測已徹底陷入「物理全盲」,若無穿透式 X 光與量子感測輔助,台積電 CoWoS-L / SoIC 的系統組裝良率可能將受到影響。


    趨勢一異質整合與 3D 堆疊
    陳慧明表示,產業焦點已正式由傳統的「製程微縮」轉向「異質整合與 3D 堆疊」。先進封裝擺脫了過去「後段製程」的輔助角色,躍升為系統整合的戰略高地。邏輯晶片、記憶體與封裝技術全面朝 3D 化演進,SoIC、3DIC 與扇出型面板級封裝(FOPLP)等關鍵技術,已成為提升運算密度、I/O 傳輸與能源效率的核心解答。

    趨勢二「驗證週期的極致壓縮與熱管理革命」
    先進封裝複雜度的提升大幅擠壓了開發驗證時間,由台積電與日月光主導的「3DIC 先進封裝聯盟」,成功將設備與材料驗證期由 1.5 年縮短至 1 年內。同時,高功耗 AI 晶片帶來的散熱考驗,促使台積電高度強調「晶圓散熱」,這直接催化了 G2C 聯盟等測試介面與溫控設備廠的營運爆發力,大幅拉升測試設備與耗材的需求。

    趨勢三「算力評估範式的轉移」。
    AI 推理(Inference)與 Agentic AI 的崛起,帶來了龐大的記憶體頻寬與 KV Cache 需求。產業投資重點已從傳統的「總擁有成本(TCO)」轉向「總瓦價值(TVO)」,開始精細計算每美元 Token 產出(Tokens/$)與每瓦 Token 產出(Tokens/W)。為優化算力傳輸效率,記憶體架構正加快從 2.5D 中介層向 3D 垂直堆疊轉型。

    趨勢四「CPO 光學共封裝測試生態系的串聯」
    因應晶片尺寸擴大,日月光投推出 FOCoS-Bridge 等先進封裝技術,眾多台廠設備商也積極投入光損檢測、晶片貼合與 CPO 測試機台的開發。CPO 測試流程高度分工,涵蓋光學耦合對位、PIC 晶片與電性晶片測試,須多家設備商同步到位。隨著客戶規格陸續底定,未來兩年將是驗證能量轉化為實際出貨的觀察窗口,而測試驗證體系的配套速度將直接決定 CPO 的商業化進程。


    聚焦投資策略,陳慧明認為,台灣供應鏈受惠正由傳統封測延伸至材料、設備、廠務與特種氣體。在 CPO 布局上,除了輝達預計率先採用 CPO 外,多數 CSP 則傾向以 NPO 作為過渡方案,兩大主線最值得關注:一是供需缺口尚未收斂的雷射與光學元件供給端(如 EML、CW 雷射與磷化銦產能);二是CPO 測試與驗證設備供應鏈,因光引擎造價昂貴,須確保每一站點的測試良率。兩者將共同支撐這一波 CPO/NPO 放量的實際節奏。

    陸行之分析,台積電先進封裝品質與可靠性技術團隊針對次世代 HBM4 / HBM4E 提出呼籲:建議全球三大記憶體原廠(SK 海力士、三星電子、美光)在 HBM 晶粒設計初期就必須納入「可檢測性設計(Design for Inspection, DFI)」,應配置專屬的 X 光繞射(X-ray Diffraction/Metrology)與量子感測檢測標記。

    陸行之進一步說明,隨著 3D 混合鍵合(Hybrid Bonding)將晶粒間距微縮至數微米且堆疊層數高達 16–20 層,傳統光學檢測已徹底陷入「物理全盲」,若無穿透式 X 光與量子感測輔助,台積電 CoWoS-L / SoIC 的系統組裝良率可能將受到影響。

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