天虹研發光化學UV ALD首次挑戰全球先行　訂單看到明年Q1

天虹（6937）上半年獲利年增151%，每股純益2.54元。天虹自主研發的310×310 mm 面板級封裝物理氣相沉積（PVD）設備已完成交機與客戶驗證，正式進入放量期，第四季設備也將進入美國，天虹表示，投資PLP平台投資報酬相當快，因應客戶先進設備，應用光化學取代熱和電漿風險將是趨勢，天虹已也研發紫外線輔助原子層沉積 (UV ALD) 設備，將會是全球最先行。

展望下半年，天虹表示，下半年ALD比重提高，310×310 mm有額外需求，訂單已看到明年首季，預計也會在天虹外成立委外實驗室，磷化銦和碳化矽等也會是關注。

天虹旗下輝虹科技主要布局高階光學量測與極紫外光（EUV）相關技術市場，天虹表示，過去台灣設備多半只跟隨全球設備大廠，但隨著客戶設備愈來愈先進，光取代電的技術也成為近期關注焦點，天虹因此研發UV ALD，將會全球在先行。

天虹今年上半年營收13.01億元，年增33.6%。毛利率41.71%，年增1.22個百分點。稅後純益1.71億元，年大增151%；每股稅後純益2.54元。