美、荷聯手打擊中國半導體業　舊型曝光機和零件也將有出口限制

在美國推動下，荷蘭今夏將限制製造先進晶片所需的曝光機出口至中國，最快今天（6/30）宣布措施。路透社獨家報導，預計在荷蘭出手後，美國可能在7月下旬再公布新規定，禁止一些較舊的曝光機機型輸往中國約6家半導體廠，甚至一些美製零件也會被禁。

路透社29日報導，荷蘭政府預計最快於當地時間30日宣布新法規，限制荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML）第二先進的浸潤式深紫外光曝光機（DUV）出口至中國，若要出口則必須先申請許可證。至於最先進的極紫外光曝光機（EUV）已於今年3月禁止出口給中國。

據彭博新聞先前報導，荷蘭打算限制的浸潤式DUV共3款，為TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i和NXT:2100i。

荷蘭政府可能不會直接指名艾司摩爾，但新法規目的就是限制其產品輸中。擁有原子層沉積技術（ALD）的ASM國際（ ASM International）也可能受到新規定的打擊。

美國7月再出手，鎖定中國6家半導體公司

數名消息人士說，荷蘭的新規定不會立刻生效；其中一人表示，預計生效日是9月。而美國預計會利用自身影響力，防止更多荷蘭廠商的半導體製造設備輸往中國；艾司摩爾產品內含美製零件，因此會受美國法規影響。

消息人士指出，美方的新規定可能於7月下旬公布，限制一些較舊的曝光機型號出口至中國，例如NXT:1980Di ，甚至一些美製零件也在限制範圍內。美國將要求各企業必須先申請許可，才可向特定的約6間中國半導體公司出口舊型設備，而且申請很可能被拒絕。

路透社報導沒有列出哪6家中國半導體公司會受影響，但指出「包含中國最大晶片製造商中芯國際」。

此外，消息人士還透露，美國還預計在7月更新去年10月推出的規定。當時美國以國安為由，對科林研發（Lam Research）、應材（Applied Materials）等美企實施出口限制，並開始遊說其他主要設備商國家採取類似措施。

擁有尼康（Nikon）和東京威力科創（Tokyo Electron，又稱東京電子 ）的日本，已宣布將限制23種半導體設備的出口，7月23日生效。